隨著電子工業(yè)的快速發(fā)展，對作為電子元器件基礎的印制板的需求和對加工精度的要求越來越高。URE-2000/35型紫外光刻機是印制板制造過程中的重要設備。傳統的光刻機在生產過程中需要人工吹膜，需要經常更換薄膜。由于散熱系統過于臃腫，其生產成本高、效率低，已不能滿足PCB生產的需要。在實驗的基礎上，設計了一種雙層玻璃干燥架光刻機，對其主要部件進行了改進，包括干燥架系統、光路系統、冷卻系統、電氣和控制系統的整體設計。

　　在計算機的控制下，URE-2000/35型紫外光刻機利用聚焦電子束對有機聚合物（通常稱為電子抗蝕劑或光刻膠）進行曝光。光刻膠改變其物理和化學性質，在一定的溶劑中形成良好或不良的溶解區(qū)域，從而在抗蝕劑上形成精細的圖案。
 

　　紫外投影光刻是將特定形狀的光斑投射到器件表面涂覆的光刻膠上，使光刻膠在照射區(qū)域發(fā)生化學變化，曝光顯影后可形成微米級精密圖案；進一步的蝕刻或蒸發(fā)可以在樣品表面形成所需的結構。UV投影光刻作為材料、器件、微結構和微器件的常用制備技術，廣泛應用于維納結構制備、半導體器件電極制備、太赫茲/毫米波器件制備、光掩模制備、PCB制造等應用領域。常規(guī)UV投影光刻機需要先制作掩膜版。耗材成本高、生產周期長，難以滿足材料器件實驗室對靈活性和實驗進度的要求。近年來發(fā)展起來的無掩模光刻技術突破了這一技術局限，實現了任意形狀編程、自動高精度大規(guī)模拼接無掩模光刻，隨時將您的設計轉化為實際成品，大大縮短了開發(fā)測試周期，強力輔助維納微納器件的制備。

　　URE-2000/35型紫外光刻機基于多年微納結構制備經驗，自主研發(fā)高均勻度UV光源、高保真導光路、高精度、大行程、大承重納米平臺等核心技術，結合高度穩(wěn)定的機械結構、自動化和軟件設計，推出全自動高精度無掩模光刻機。